碳化硅因高导热性、宽禁带等特性，成为半导体材料研发热点。2023年，中国碳化硅外延设备市场规模达13.07亿元，但碳化硅硬度大，影响加工，金属摩擦诱导反应磨削技术与溶胶凝胶抛光技术有效解决这一难题。

  碳化硅作为一种新兴的半导体材料，具有导热率高、宽禁带、高击穿电场、高电子迁移率等特性，使得其成为目前研发比较集中的半导体材料之一。因为这些性能，碳化硅可以广泛地应用于衬底、外延、器件设计、晶圆制造等多个领域。

  据中研普华产业研究院发布的报告数据显示，2023年中国碳化硅外延设备市场规模约为13.07亿元，预计到2026年将增至26.86亿元，由此可见其巨大的潜力市场。

  然而在实际应用过程中，碳化硅非常硬，莫氏硬度约为9.5，接近于金刚石，导致其在抛光研磨过程中存在一定的难点，给现有的加工技术带来了巨大的挑战。

  金属摩擦诱导反应磨削技术主要是以金属摩擦诱导化学作用为原理，在反应变质层的不断生成及去除的循环过程中，实现碳化硅的高速去除。

  碳化硅虽然莫氏硬度非常高，但它不适用于加工黑色金属，因为碳化硅会在高温下分解，碳原子和硅原子会扩散到金属中形成金属硅化物和不稳定的金属碳化物，在冷却过程时逐步进行分解，造成磨损极其严重。根据这一特点，人们推断纯金属可以与碳化硅在一定条件下发生化学反应。

  在实验过程中，碳化硅衬底的碳面往往有着近乎无损伤的表面，而硅面存在大量裂纹、位错、层错和晶格畸变等晶体缺陷。用铁摩擦碳化硅衬底的碳面材料去除率可达330µm/h。用纯镍摩擦碳化硅衬底的硅面材料去除率为534µm/h。

  溶胶凝胶抛光技术是一种绿色、高效的抛光方法，利用半固结磨料和柔性基材，借助软质基体所拥有的柔性特点，实现了磨粒的“容没”效应，以在极硬半导体衬底上实现超光滑和低缺陷密度的表面。这种方法结合了化学和机械作用，可以在不导致非常严重表面或亚表面损伤的情况下，有效的抛光极硬半导体衬底。

  与传统CMP相比，溶胶凝胶抛光技术能够在极短的时间内显著降低表面粗糙度，并实现较高的材料去除率；软质基体由于具备比较好的柔韧性，可以在较低的抛光压力下工作，减少对工件和设备的压力需求，减少磨粒的磨损和脱落，延长磨粒的使用寿命。

  前驱体物质（通常是金属有机物）转化为溶胶，通过水解和缩合反应形成凝胶，在溶胶-凝胶抛光垫中，磨粒被部分固定在凝胶基质中，这样做才能够在保持磨粒活动性的同时，提供一定的机械强度。国内学者利用这一技术对HTHP单晶金刚石（111）面来加工，抛光22h后，表面粗糙度从230nm降至1.3nm。

  磨粒划擦诱导碳化硅水反应的磨抛技术是一种先进的材料加工技术，主要使用在于碳化硅等硬脆材料的精密加工。

  这项技术利用磨粒在工艺流程中对碳化硅表面产生的划擦作用，结合水反应来改善材料的去除效率和表面上的质量。经过控制磨粒的容没效应，使得磨粒保持在同一高度上，通过磨粒划擦诱导碳化硅表面生成非晶碳化硅，非晶碳化硅与水可以反应生成软质二氧化硅，再通过磨粒划擦去除二氧化硅的变质层。

  在纳米尺度中，碳化硅衬底表面在金刚石等压头的反复机械作用下会被诱导成非晶化的碳化硅。非晶化的碳化硅和水反应生成二氧化硅的影响因素包括载荷、接触状态、速度和温度，通过对这一过程的合理利用，可以使碳化硅衬底的加工效率、表面上的质量得到非常明显的提升，可以合理避免裂纹的产生。

  目前有关于这部分的研究还较少，在后续表面的处理、材料的选用等还有待进一步的优化，相信在未来，以机械诱导为主的反应磨抛技术能给我们大家带来更多的惊喜！